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Silicium nanostructuré multifonctionnel obtenu par holographie

Authors
  • Gwiazda, Agnieszka
Publication Date
Feb 11, 2019
Source
HAL
Keywords
Language
French
License
Unknown
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Abstract

Comme parfaitement illustré par le silicium poreaux, le caractère multifonctionnel d’un matériau réside dans la capacité à le (nano)structurer et ce par des techniques de structuration à la fois simples, peu couteuses et adaptées aux grandes surfaces. Cette thèse a porté sur le développement du silicium nanostructuré par deux voies complémentaires, une voie ascendante basée principalement sur la réalisation de matrices (template) pour le dépôt de silicium par électrochimie en collaboration avec le LRN et une voie descendante combinant deux techniques, la lithographie interférentielle et la gravure plasma. La première voie a permis de réaliser des mesostructures de taille entre 200 nm et 1 micron. Une technique originale de fabrication de matrice à partir de résines de solubilité différente a été mise au point et validée. La deuxième voie, a permis la réalisation de silicium micro, meso et nanostructuré sur la base d’un nouveau type de masque dur. Cette nouvelle technologie brevetée repose sur la dissolution chimique de l’oxyde de Zinc et son utilisation comme masque dur. Une sélectivité allant jusqu’à 100 a pu être obtenue sur le Silicium. Plusieurs validations fonctionnelles ont pu être réalisées à partir du silicium structuré obtenu, cela inclut le contrôle à la fois des propriétés optiques d’émission (greffage de complexes de lanthanide), des propriétés thermiques du silicium massif par structuration de surface en collaboration avec l’université américaine de Beyrouth et enfin la mouillabilité.

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