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Silice amorphe, élaborée par CVD à partir de TEOS et O2 : Composition, stœchiométrie, structure et résistance à l’abrasion chimique

Authors
  • Ponton, Simon
  • Dhainaut, Franck
  • Vergnes, Hugues
  • Caussat, Brigitte
  • Samélor, Diane
  • Sadowski, Daniel
  • Vahlas, Constantin
Publication Date
Nov 01, 2018
Source
Open Archive Toulouse Archive Ouverte
Keywords
Language
French
License
Green
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Abstract

Depuis les années 80, l’élaboration de couches minces de silice, SiO2 à partir d’orthosilicate de tétraéthyle ((Si(OC2H5)4, TEOS) par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) a été largement étudiée pour répondre aux problématiques de la microélectronique. Récemment, l’élargissement de l’éventail d’applications pour les revêtements à base de SiO2 pour l’optique, l’agroalimentaire, le biomédical, l’emballage ou la séparation des gaz, induit une modification des cahiers des charges tant pour les matériaux que les procédés. Il est souvent mis en avant les besoins de : (a) réduire le budget thermique lors de l’élaboration, (b) éliminer la formation de poudres, induites par exemple par une réactivité élevée en présence d’ozone, (c) revêtir des structures complexes, ce qui diminue l’intérêt des procédés plasma. En réponse à ces besoins, cette étude s’intéresse à la structure de couches de SiO2 amorphe élaborées à partir de TEOS et oxygène à pression atmosphérique à des températures Td comprises entre 400°C et 550°C, et corrèle ces caractéristiques à leur résistance à l’abrasion chimique.

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