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초임계 유체를 이용한 전자부품 및 반도체 재료의 건식 세정

Publisher
NRF KRM(Korean Research Memory)
Publication Date

Abstract

본 연구의 목적을 달성하기 위하여 초임계 CO2와 계면활성제 및 용매를 포함한 혼합물의 상평형을 관찰하고 계면활성제의 용해도를 측정할 수 있는 고압 cell을 포함한 실험장치를 제작, 설치하였다. 여러 가지 공용매 및 계면활성제 중에서 perfluoropolyether carboxylic acid(Krytox 157, Du-Pont)를 연구대상 물질로 선정하였으며, perfluoropolyether carboxylic acid는 CO2-philic group과 hydrophilic group을 갖고 있어 초임계 CO2내에서 microemulsion을 형성하여 photoresist polymer의 제거성능을 가지고 있다. 초임계 CO2/Krytox 혼합물을 photoresist 건식세정에 사용하기 위해서 초임계 CO2/ Krytox의 상평형 및 혼화성, CO2/Krytox/water 계의 상평형자료를 측정하는 연구를 수행하였다.

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