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Growth of a strained epitaxial film on a patterned substrate

Authors
Journal
Comptes Rendus Physique
1631-0705
Publisher
Elsevier
Volume
14
Identifiers
DOI: 10.1016/j.crhy.2012.11.006
Keywords
  • Strained Epitaxial Film
  • Asaro–Tiller–GrinfelʼD Instability
  • Patterning
  • Film épitaxié Contraint
  • Instabilité DʼAsaro–Tiller–GrinfelʼD
  • Structuration

Abstract

Résumé Nous étudions lʼinfluence de la cinétique de croissance sur lʼinstabilité dʼAsaro–Tiller–Grinfelʼd qui se développe sur un film mince sur un substrat structuré. Nous utilisons un modèle continu qui est résolu au premier ordre en la pente de la surface. Les interactions de mouillage ainsi que le champ élastique induit par lʼinterface film/substrat introduisent une dépendance explicite dans lʼépaisseur du film. En conséquence, la symétrie par translation dans la direction de croissance est brisée et le flux de déposition nʼest pas un paramètre trivial de lʼinstabilité. Comme dans le cas du recuit, nous trouvons que lʼinstabilité peut évoluer dʼune configuration en phase vers une configuration en opposition de phase avec le substrat, en fonction du temps de déposition et de lʼépaisseur du film. Nous comparons lʼévolution de lʼinstabilité pour différents flux de croissance. Le diagramme des phases cinétique obtenu dans le cas du recuit rend aussi compte de lʼévolution du film lors de la croissance dans ses conditions courantes.

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