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Mehrfachbindungen zwischen Hauptgruppenelementen und Übergangsmetallen:CLXVI. 1 Vorhergehende Mitteilung dieser Serie: F.E. Kühn, M.U. Rauch, G.M. Lobmaier, G.R.J. Artus, W.A. Herrmann, Chem. Ber. 130 (1997) im Druck. 1 Molekulare Organorhenium-Vorstufen für CVD-prozesse

Authors
Journal
Journal of Organometallic Chemistry
0022-328X
Publisher
Elsevier
Publication Date
Volume
553
Identifiers
DOI: 10.1016/s0022-328x(97)00607-4
Keywords
  • Alkyl
  • Aryl
  • Rhenium
  • Thermogravimetry
  • Cvd

Abstract

Zusammenfassung Unter TG/MS-Bedingungen sublimieren nur die leichtesten Vertreter der Stoffklasse RReO 3 wie CH 3ReO 3 und C 2H 5ReO 3 rückstandslos und sind damit für Plasma–CVD geeignet. Bei schwereren Homologen und Basenkomplexen treten vor der Sublimation z. T. Redox- und Fragmentierungsprozesse auf. Thermisches CVD zeigt, daß durch geeignete Wahl der Abscheidetemperatur und des Organorheniumprecursors die Schichtstöchiometrie variabel einstellbar ist. ReO x-Schichten ( x=1–3), Re- und ReC y-Schichten ( y<8,5) können erzeugt werden.

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