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The selective oxidation behaviour of someCu Alloys

Authors
Journal
Corrosion Science
0010-938X
Publisher
Elsevier
Publication Date
Volume
10
Issue
3
Identifiers
DOI: 10.1016/s0010-938x(70)80013-0

Abstract

Zusanunenfassung Zusammenfassung-Eine Filmschältechnik ist entwickelt worden, um Oxydfilme zu vergleichen, diesich bildeten, wenn Cu-5Al, Cu-2,5Al-2,5Si, Cu-7,5Al-2Si, Cu-2Be und Cu-3Si bei 800°C in (i) flüssigem H 2 oxydiert werden, (ii) in flüssigem H 2 ntit darauffolgender Aussetzung zur Luft bei der gleichen Temperatur und (iii) in Luft. Die Beobachtungen stimmen mit gravimetrischen Messungen überein and mit dem Grad des Oxydierungswiderstandes, welcher unter anderen Bedingungen der Aussetzung beobachtet wird. Unter Bedingungen selektiver Oxydierung entwickelt Cu-2Be einen Film von BeO, welcher den Transport von Cu + oder das Eindringen von Sauerstoff nicht zulässt. Cu-Al Legierungen entwcken Filme von γ-Al 20 3 welche sich während der folgerden Aussetzung in Luft verdicken, währenddessen Cu + durch den Film sich nach aussen bewegt und Sauerstoff den Film durchdringt and Cu 2O Kristalle an der Film/Metall Grenzfläche bildet. Im Falle von Cu-Al-Si-Legierungen bietet Si Schutz, welcher zusätzlich zu der gleichwertigen Menge von Al ist, aber Cu-3Si-Legierung entwickelt amorphe Filme von Si, welche sehr geringen Schutz den Legierungen bieten. Um für selektive Oxydierung wirksamen Schutz zu gewähren, muss das Oxydbildende, gelöste Element bestimmte morphologische Eigenschaften zusätzlich zu einer hohen Affinität für Sauerstoff besitzen.

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