Cette thèse est consacrée à l’épitaxie sélective en phase vapeur aux organométalliques de multipuits quantiques InGaN/GaN pour la fabrication de micro-écrans émissifs. Les LEDs InGaN/GaN sont un candidat idéal pour cette application, notamment en raison de leur forte luminosité et leur grande fiabilité qui permet un haut rendement avec une faible c...
Ce travail présente une approche d’intégration de semiconducteurs III-V sur silicium. L’objectif est de réaliser des sources laser multi-longueur d’onde émettant en bande C pour les télécommunications optiques à partir d’une croissance épaisse de matériaux III-V sur fine couche d’InP collée sur silicium oxydé (InP-SiO2/Si = InPoSi).Afin d’étudier l...
De par ses propriétés physiques remarquables, le GaN est un matériau très attrayant pour la fabrication de composants photoniques. Sa synthèse est en revanche très complexe et reste un obstacle à son utilisation. L’hétéroépitaxie est, pour l’heure, la technique de synthèse la plus employée mais l’absence de substrats cristallins aux propriétés proc...
This thesis focuses on III-V/Si integration of single- and dual-junction solar cells by Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (MOVPE). The photovoltaic devices were made with materials lattice matched to InP. The goal was to firstly obtain efficient devices on InP substrates and then to integrate them on a structure with a different lattice parameter, b...
Combining Silicon with III-V materials represents a promising pathway to overcome the ≈29% efficiency limit of a single c-Si solar cell. While the standard approach is to grow III-V materials on Si, this work deals with an innovative way of fabricating tandem solar cells. We use an inverted metamorphic approach in which crystalline silicon or SiGe ...
Les diodes électroluminescentes (LEDs) utilisées dans les systèmes d'éclairage solide sont réalisées à base de GaN et de ses alliages. Bien que les LEDs commerciales soient principalement développées sur substrat saphir, les industriels et laboratoires de recherche s'intéressent également au substrat silicium, moins cher et disponible en de plus gr...
We investigate the band structure of a compressively strained In(Ga)As/In(0.53)Ga(0.47)As quantum well (QW) on an InP substrate using the eight-band k.p theory. Aiming at the emission wavelength around 2.33 mu m, we discuss the influences of temperature, strain and well width on the band structure and on the emission wavelength of the QW. The wavel...
InGaN/GaN heterostructures have been deposited onto (0 0 0 1) sapphire by our home-made low pressure MOVPE with different growth parameters. It has been noted that the indium incorporation depends by a complex way on a number of factors. In this work, the effect of substrate temperature, trimethylindium input flow and V/III ratio on the indium inco...
Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der Entwicklung von Leistungs-HBTs für hohe Leistungen und hohe Betriebsspannungen. Grundlage der Entwicklungen waren GaAs/Ga0.5InP-HBTs mit geringer Ausgangsleistung für mobile Endgeräte. Die HBT Schichtstrukturen wurden mit Hilfe der metallorganischen Gasphasenepitaxie (MOVPE) in einem kommerziell erhäl...
